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| 삼성전자가 평택 2라인 가동에 들어가 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급 LPDDR5 모바일 D램을 양산한다. /삼성전자 제공 |
삼성전자 "자동차 전장용 제품까지 사용처 확대할 것"
[더팩트｜문수연 기자] 삼성전자는 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다고 30일 밝혔다. 반도체 업계에서 최초로 EUV(극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램을 생산한다.
지난 2월 2세대 10나노급 공정으로 역대 최대 용량의 16GB(기가바이트) LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에 더 미세한 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화했다.
이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램(LPDDR5)보다 16% 빠르며, 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB를 다운받을 수 있다.
평택 2라인은 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산할 예정이다.
삼성전자는 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위해 지난 5월 평택 2라인에 파운드리 생산라인을 착공했으며, 6월에는 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하는 낸드플래시 생산라인을 착공했다. 두 라인은 모두 2021년 하반기부터 본격 가동할 예정이다.
평택 2라인은 삼성전자가 지난 2018년 8월 발표한 '180조 원 투자·4만 명 고용' 계획에 따라 건설됐다. 이 중 130조 원은 국내 반도체 생산 시설에 투자했으며, 평택 2라인에는 총 30조 원 이상의 투자가 이뤄진다.
직접 고용 인력은 약 4000명이며, 협력사 인력과 건설 인력까지 포함하면 3만 명 이상의 고용을 창출할 것으로 기대된다.
삼성전자 관계자는 "글로벌 스마트폰 업체들에게 차세대 16GB 모바일 D램을 업계 유일하게 제공함으로써 내년 출시되는 AI기능이 더욱 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 것"이라며 "향후 자동차 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 계획"이라고 말했다.
