중국에 회사를 설립하고 국내 반도체 장비 핵심 기술을 빼돌린 혐의를 받은 일당이 재판에 넘겨졌다./서울중앙지검

[더팩트ㅣ장우성 기자] 중국에 회사를 설립하고 국내 반도체 장비 핵심 기술을 빼돌린 혐의를 받는 일당이 재판에 넘겨졌다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이춘 부장검사)는 25일 중국 반도체 장비 제작업체 부사장 A 씨 등 3명을 산업기술보호법 등 위반 혐의로 구속 기소, 2명을 불구속 기소했다. 중국법인은 양벌규정에 따라 재판에 넘겼다.

삼성전자 기술팀 부장 출신인 A 씨는 중국 자본의 투자를 받아 반도체 장비 제작업체 X사를 설립한 뒤 관련 국내 기술과 엔지니어들을 빼돌려 장비 제작에 사용한 혐의로 기소됐다.

검찰에 따르면 A씨는 자신이 재직했던 회사의 ALD(원자층증착) 장비의 설계도면 등 기술 자료를 유출하고 공범인 B,C 씨가 다녔던 회사, D씨의 전 회사 자료도 빼돌려 별도 서버에 보관했다. B~D 씨는 현재 X사에서 장비설계팀장 등을 맡고있다.

이들은 유출 기술을 이용해 X사에서 2022년 11월께 ALD 장비 개발에 착수해 4개월 만에 설계도면을 작성하고 장비제작에 들어갔다. 직접 기술을 개발할 경우에는 3년 이상이 걸린다고 한다.

중국에는 반도체 제조 공정에서 핵심적 역할을 하는 ALD 장비 개발에 성공한 회사가 없는 것으로 알려졌다.

A 씨 등은 한국에서 받던 급여의 2배 이상과 X사의 주식을 나눠받기로 하는 등 금전적 이익을 위해 범행을 저지른 것으로 검찰은 파악했다.

검찰이 국내 협력업체 제작 중 압수한 ALD 장비./서울중앙지검

이번 기술 유출에 따른 국내 3개 회사들의 직접 피해액은 총 736억원, 유사장비 개발 결과 경쟁력 저하로 빚는 기대 손해는 총 524억원가량으로 추산됐다.

검찰은 이들이 국내 협력업체에 맡겨 제작 중이던 ALD 모듈을 압수해 장비의 중국 유통을 미리 차단했다.

X사 중국인 대표는 피의자로 입건됐으나 중국에 체류하며 조사를 거부해 기소중지된 상태다.

A 씨는 2016년 삼성전자 핵심기술인 18나노 D렘 공정기술 자료를 이용해 중국 D램 반도체 회사 CXMT의 공정 개발 자료를 작성한 혐의도 있다. 이같은 혐의는 ALD 기술유출 사건 수사 중 추가로 드러났다.

검찰 관계자는 "피고인들이 범죄에 상응하는 형을 받도록 공소유지에 만전을 기하겠다"고 밝혔다.

leslie@tf.co.kr