SK하이닉스와 삼성전자의 D램 반도체 핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 연구소장 등 17명이 재판에 넘겨졌다. /이새롬 기자

'HKMG·반도체 세정 레시피' 중국 경쟁사에 유출

[더팩트ㅣ김세정 기자] SK하이닉스와 삼성전자의 D램 반도체 핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 연구소장 등 17명이 재판에 넘겨졌다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(형사12부·조상원 부장검사)는 국가정보원 산업기밀보호센터와 공조한 'D램 반도체 관련 국가핵심기술, 첨단기술 국외 유출 사건' 수사결과를 26일 발표했다.

검찰은 반도체 장비업체 A회사의 연구소장인 임모 씨와 이사 윤모 씨, 박모 씨 등 5명을 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설) 혐의 등으로 구속기소 했다. 관련자 12명도 불구속기소 했다.

검찰은 국정원 산업기밀보호센터에서 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 받고 수사에 착수했다. 지난해 7월, 10월에 A사를 압수수색했다.

검찰에 따르면 A사의 연구소장 임 씨와 이사 박 씨 등은 2018년 8월부터 지난해 6월까지 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 국가핵심기술, 첨단기술 및 영업비밀을 국외로 유출한 혐의를 받는다.

HKMG는 D램 반도체 성능 향상을 위해 전도율이 높은 신소재를 사용하는 것으로 최신 반도체 제조 공정 기술이다. 반도체 세정 레시피는 반도체 제조 공정에서 세정 공정에 사용되는 화학 물질의 배합비, 분사 순서, 속도, 압력 등에 대한 수치로 SK하이닉스가 수만 회 공정을 통해 확보한 것으로 알려졌다.

또 A사의 공정그룹장 윤모 씨와 공장장 김모 씨 등 3명은 2017년 3월부터 삼성전자와 세메스 전 직원으로부터 얻은 초임계 세정장비 도면 등 첨단기술 및 영업비밀을 중국 수출용 장비를 개발하는데 사용한 혐의를 받는다. 초임계 세정장비는 세메스가 세계 최초로 개발했다.

검찰은 "기술 유출 사건 등 전문분야 수사 역량을 지속적으로 강화해 반도체 제조업 등 대한민국 기간산업의 국가핵심기술, 첨단기술 국외 유출사범에 대해 엄정 대응하겠다"고 밝혔다.

sejungkim@tf.co.kr