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삼성전자, 올해 시설투자 '사상 최대'…반도체만 '29.5조'
입력: 2017.10.31 09:48 / 수정: 2017.10.31 09:48
삼성전자가 올해 전체 시설투자 규모가 42조2000억 원으로 사상 최대치를 기록할 것이라고 31일 공시했다. /더팩트 DB
삼성전자가 올해 전체 시설투자 규모가 42조2000억 원으로 사상 최대치를 기록할 것이라고 31일 공시했다. /더팩트 DB

[더팩트 | 서재근 기자] 삼성전자의 올해 시설투자 규모가 사상 최대치를 기록할 것으로 보인다.

삼성전자가 31일 발표한 올해 시설투자 계획에 따르면 전체 시설투자 규모는 모두 42조2000억 원이다. 이는 지난해(25조5000억 원) 대비 2배가량 늘어난 수치다.

부분별로 살펴보면, 반도체 사업에서는 V-NAND 수요 증가 대응을 위한 평택캠퍼스 증설, D램 공정전환, 인프라 투자 및 파운드리 증설 등에 29조5000억 원을 투자하고, 디스플레이 사업에서는 플렉서블 OLED 패널 생산설비(CAPA) 증설 등에 14조1000억 원을 투자한다.

삼성전자 관계자는 "4분기 투자는 최대 실적을 기록한 반도체 사업에 집중될 것으로 보인다"며 "대규모 투자로 부품 사업 중심 기술 리더십 강화를 통한 사업 역량 제고 효과가 기대된다"고 설명했다.

한편, 삼성전자는 연결 기준으로 올해 3분기 매출과 영업이익에서 각각 62조500억 원, 14조5300억 원을 기록했다고 31일 공시했다.

이는 지난해 같은 기간과 비교해 매출은 29.77%, 영업이익은 179.48% 늘어난 수치로 분기 기준으로는 역대 최대 규모다. 당기순이익 역시 11조1900억 원으로 같은 기간 146.66% 증가했다.

likehyo85@tf.co.kr

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