최근 삼성전자 핵심 사업인 반도체 부문에서 기술 유출 시도가 이어지고 있다. 산업계는 기술유출 사태를 막기 위해 더욱 강력한 처벌 기준을 마련할 것을 요구하고 있다. /더팩트DB

[더팩트｜최문정 기자] 메모리 반도체의 경쟁력을 바탕으로 시스템 반도체 등의 영역에서도 초격차를 확보하겠다는 목표를 다진 삼성전자에서 최근 기술 유출 사건이 끊이지 않고 있다. 전문가들은 기업 비밀이자 국가 핵심 시술에 해당하는 반도체 관련 기술 유출에 대한 처벌을 강화하는 등 재발방지책 마련이 시급하다고 지적하고 있다.

13일 관련업계에 따르면, 최근 삼성전자의 영업비밀이자 국가 핵심 기술인 반도체 공장 설계 자료를 중국으로 빼돌리고, 이를 활용해 복제 공장을 세우려던 삼성전자 전 임원 A씨 등이 재판에 넘겨졌다.

A씨는 삼성전자에서 18년, SK하이닉스에서 10년 동안 임원으로 근무한 경력이 있는 한국 반도체의 산증인으로 꼽힌다. A씨는 2018~2019년 대만의 한 기업으로부터 투자를 받아 중국 시안에 삼성전자의 반도체 공장 BED(베이식 엔지니어링 데이터), 공정 배치, 설계도면 등을 활용해 복제 공장을 지으려 한 혐의를 받는다. 업계에 따르면, A씨의 복제공장은 삼성전자 시안 반도체 공장과 불과 1.5km 떨어진 곳에 위치한 것으로 알려졌다.

검찰은 A씨의 기술 유출로 인해 삼성전자가 입은 피해가 최소 3000억 원에 이를 것으로 추산하고 있다.

삼성전자 관계자는 "검찰의 기소 내용에 대해 회사에서는 공식적으로 밝힐 입장이 없다"며 말을 아꼈다.

삼성전자는 최근 반도체 핵심 기술 유출 시도로 인해 골머리를 앓고 있다.

지난달 삼성전자 반도체를 담당하는 디바이스솔루션(DS) 부문은 핵심 기술이 포함된 자료를 유출한 혐의로 엔지니어 B씨를 해고조치하고, 국가기관에 수사를 의뢰했다. B씨는 핵심 기술이 포함된 주요 자료 수십 건을 외부 개인 메일로 발송했다. 또한 일부 내용은 자신의 또 다른 외부 메일 계정으로 2차 발송해 보관하다 회사에 적발됐다.

지난해 4월에는 해외 업체로 이직을 앞둔 엔지니어 C씨가 재택근무 기간 화면에 국가 핵심 기술이 포함된 중요 자료를 수백 장의 사진으로 보관하다 덜미를 잡혔다. C씨는 범죄 혐의가 확인돼 구속 수감된 상태로 재판에 넘겨졌다. C씨는 1심에서 징역 1년 6월에 집행유예 2년, 벌금 1000만 원을 선고받았다. 향후 2심이 진행될 예정이다.

국내 협력 업체로 이직을 준비하던 D씨 역시 반도체 핵심 기술을 사진으로 보관하다 적발돼 삼성전자의 해고조치 후 재판에 넘겨졌다. D씨는 지난 4월 법원에서 징역형을 받은 것으로 알려졌다.

자회사를 통한 기술 유출 시도도 있었다. 올해 초 삼성전자 자회사 세메스의 전 연구원 등 7명이 영업 기밀에 해당하는 반도체 습식 세정장비 제작 기술 등을 부정 사용해 장비 24대의 설계도면을 제작해 장비 14대(약 710억 원 상당)를 만든 것으로 알려졌다. 이들은 이를 중국 경쟁업체나 중국 반도체 연구소에 수출했다. 이들이 빼돌린 기술은 기판 손상을 최소화하는 노하우가 담긴 차세대 기술로 산업통상자원부가 지정한 국가 핵심 기술이다. 이에 따라 이들은 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의로 징역형을 선고받았다.

삼성전자는 지난해부터 올해까지 여러 차례 반도체 핵심 기술 유출 사태를 겪었다. 사진은 삼성전자 반도체 공장 내부 모습.(기사 내용과 무관) /삼성전자

반도체처럼 첨단 기술 경쟁이 치열한 업종의 경우, 기업 기밀 유출은 향후 기업 경쟁력에도 치명적일 수 있다. 그러나 한국은 외국에 비해 낮은 양형 기준을 적용하고 있어, 근본적인 재발방지책 마련에 소극적이라는 지적이 나오고 있다.

한국은 기술을 해외로 유출하는 범죄를 저지를 경우에 대해서 처벌규정을 두고 있으나, 정작 실제 처벌은 미흡한 수준에 그쳤다.

2021년 기준 '산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법)' 위반으로 처리된 제1심 형사 공판사건을 검토한 결과에 따르면, 무죄(60.6%) 또는 집행유예(27.2%)가 대부분을 차지했다. 재산형과 유기징역은 각각 2건에 그쳤다.

특히 산업 기술의 해외유출 범죄의 경우, 법정형에 비해 양형기준이 낮은 것으로 나타났다. 해외 기술 유출의 경우, 기본 징역형은 1년~3년6개월이며, 가중사유를 반영해도 최대 형량은 6년에 그쳤다.

해외 사례와 비교해 보면 이러한 차이는 더욱 확연히 드러난다. 미국과 대만 등 한국과 반도체 등에서 기술 경쟁을 펼치고 있는 주요국은 기술 중요성 증대에 맞춰 법을 개정하거나, 피해액에 따라 양형 기준을 가중하는 등 무겁게 처벌하고 있다.

미국은 연방 양형기준을 통해 피해액에 따라 범죄 등급을 조정해 형량을 확대할 수 있다. 기술유출은 0~18개월까지 징역형을 선고할 수 있지만, 피해액에 따라 15년 8개월에서 최대 33년 9개월의 징역형 선고가 가능하다. 대만은 지난해 국가안전법 개정을 통해 군사, 정치 영역뿐만 아니라 경제·산업분야 기술유출도 간첩행위에 포함했다. 국가 핵심기술을 해외에 유출할 경우, 5년 이상 12년 이하의 유기징역과 대만달러 500만 위안~1억 위안(약 42억 원) 이하의 벌금형에 처한다.

전국경제인연합회는 지난 8일 '기술유출 범죄 양형기준 개선에 관한 의견서'를 대법원 양형위원회에 전달했다.

전경련 관계자는 "한국은 핵심 기술 유출로 인한 형량이 산업기술보호법, 부정경쟁방지법 등의 처벌규정에 한참 못 미치는 수준"이라며 "양형기준을 상향조정하고, 국가핵심기술 등의 유출에 대해 일반적인 영업비밀과 별도의 양형기준을 마련하는 것이 필요하다"고 목소리를 높였다.

munn09@tf.co.kr